另一方面，濕蝕刻僅是化學過程，干蝕刻等向性蝕刻與異向性蝕刻同時存在，濕蝕刻：利用化學藥液將需要蝕刻掉的物質蝕刻掉，濕蝕刻為等向性蝕刻，濕蝕刻機臺便宜，蝕刻速度快，但難以jing確控制線寬和獲得極其精細的圖形并且需要大量用水，污染大；干蝕刻機臺價格昂貴，蝕刻速度速度慢，但可以jing確控制線寬能獲得極其精細的圖形，而且不需要用水，污染小，蝕刻工藝是一項工業應用，涉及到我們生活中的全方面應用，在工業制造中是不可缺少的中間工藝，其應用領域緊密的以我們生活中的“吃、穿、住、行”為主要應用，無論是行業應用，或者是生活生產，蝕刻工藝是不可取代，且不可缺失的。

蝕刻也可以稱為制作空腔，這些空腔應該根據用途具有特定的深度，產生的這種空腔的深度可以通過蝕刻時間和蝕刻速率來控制，執行蝕刻機制的成功之處在于，多層結構的頂層應該被完全去除，而在底層或掩模層中沒有任何種類的損傷，這完全取決于兩種材料的蝕刻速率之比，稱為選擇性，蝕刻加工的優點主要體現在以下幾點：蝕刻加工完的產品無毛刺，生產效率也高，大批量，密集的小孔同樣可以穩定的批量生產；精密度可以越來越高，zui高管控的精度是可以達到+/-0。

現在可以對涂覆的晶片進行濕法蝕刻以將所需的圖案雕刻到晶片中，各向同性蝕刻，即在所有方向上均相等的蝕刻，是指基材的方向不影響蝕刻劑去除材料的方式，如果允許蝕刻劑反應足夠長的時間，如圖1所示，蝕刻劑將蝕刻掉稱為掩模底切的掩模下的基板材料，可以通過在底切掩模前先沖洗掉蝕刻劑，然后在通道上施加光刻膠來避免這種情況，加工出來的產品沒有毛刺，沒有臟污，表面更是光滑，蝕刻加工是其他機械的工藝都無法加工的高精密產品。