另一方面，濕蝕刻僅是化學(xué)過程，干蝕刻等向性蝕刻與異向性蝕刻同時存在，濕蝕刻：利用化學(xué)藥液將需要蝕刻掉的物質(zhì)蝕刻掉，濕蝕刻為等向性蝕刻，濕蝕刻機(jī)臺便宜，蝕刻速度快，但難以jing確控制線寬和獲得極其精細(xì)的圖形并且需要大量用水，污染大；干蝕刻機(jī)臺價(jià)格昂貴，蝕刻速度速度慢，但可以jing確控制線寬能獲得極其精細(xì)的圖形，而且不需要用水，污染小，蝕刻工藝是一項(xiàng)工業(yè)應(yīng)用，涉及到我們生活中的全方面應(yīng)用，在工業(yè)制造中是不可缺少的中間工藝，其應(yīng)用領(lǐng)域緊密的以我們生活中的“吃、穿、住、行”為主要應(yīng)用，無論是行業(yè)應(yīng)用，或者是生活生產(chǎn)，蝕刻工藝是不可取代，且不可缺失的。

蝕刻幾微米的非常薄的層將去除在背面研磨過程中產(chǎn)生的微裂紋，導(dǎo)致晶片具有顯著增加的強(qiáng)度和柔性，對于各向同性濕法蝕刻，氫氟酸、硝酸和乙酸(HNA)的混合物是硅zui常見的蝕刻劑溶劑，每種蝕刻劑的濃度決定了蝕刻速率，二氧化硅或氮化硅經(jīng)常被用作對抗HNA的掩蔽材料，彩色不銹鋼蝕刻板具有較高的耐磨、抗刻劃特性高于普通不銹鋼，常用于酒店、賓館、娛樂場所、gao檔皮牌專賣店、車廂板、廳堂墻板、天花板、招牌、門窗裝飾等。

現(xiàn)在可以對涂覆的晶片進(jìn)行濕法蝕刻以將所需的圖案雕刻到晶片中，各向同性蝕刻，即在所有方向上均相等的蝕刻，是指基材的方向不影響蝕刻劑去除材料的方式，如果允許蝕刻劑反應(yīng)足夠長的時間，如圖1所示，蝕刻劑將蝕刻掉稱為掩模底切的掩模下的基板材料，可以通過在底切掩模前先沖洗掉蝕刻劑，然后在通道上施加光刻膠來避免這種情況，加工出來的產(chǎn)品沒有毛刺，沒有臟污，表面更是光滑，蝕刻加工是其他機(jī)械的工藝都無法加工的高精密產(chǎn)品。