傳統(tǒng)的蝕刻工藝因?yàn)榇嬖诩夹g(shù)落后、生產(chǎn)成本高、嚴(yán)重的污染問題，guo家在環(huán)保政策的要求下強(qiáng)勢淘汰傳統(tǒng)工藝，整個(gè)蝕刻行業(yè)亟需解決行業(yè)升級(jí)、技術(shù)換代的問題，且迫在眉睫，蝕刻優(yōu)版創(chuàng)新技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，微加工過程中有很多加工步驟，現(xiàn)代工藝上，不銹鋼蝕刻板針對高精密、精細(xì)化的產(chǎn)品上無法滿足，其蝕刻工藝手段非常適用對精密化產(chǎn)品，比如汽車機(jī)械部件、墊片和間隔墊圈、高性能密封墊片、各種過濾網(wǎng)片，電動(dòng)汽車電池片，汽車?yán)染W(wǎng)上均采用蝕刻工藝。

缺點(diǎn)包括許多化學(xué)廢物，其中許多是高酸性和多步過程，在蝕刻之前，需要掩蓋襯底的區(qū)域以獲得器件所需的詳細(xì)功能，在稱為光刻的過程中，將光敏光刻膠旋涂到晶圓上，然后將晶片預(yù)烘烤以除去光刻膠中多余的溶劑，然后將具有所需特征的切口的掩模放置在光致抗蝕劑的頂部，并使用紫外光固化任何曝光的光致抗蝕劑，當(dāng)將腐蝕劑（一種腐蝕性化學(xué)品）施加到被掩膜的晶圓上時(shí)，在所有方向上未被掩膜覆蓋的區(qū)域中，蝕刻會(huì)以相同的速率發(fā)生，從而產(chǎn)生倒圓的邊緣。

現(xiàn)在可以對涂覆的晶片進(jìn)行濕法蝕刻以將所需的圖案雕刻到晶片中，各向同性蝕刻，即在所有方向上均相等的蝕刻，是指基材的方向不影響蝕刻劑去除材料的方式，如果允許蝕刻劑反應(yīng)足夠長的時(shí)間，如圖1所示，蝕刻劑將蝕刻掉稱為掩模底切的掩模下的基板材料，可以通過在底切掩模前先沖洗掉蝕刻劑，然后在通道上施加光刻膠來避免這種情況，加工出來的產(chǎn)品沒有毛刺，沒有臟污，表面更是光滑，蝕刻加工是其他機(jī)械的工藝都無法加工的高精密產(chǎn)品。