干凈室中的溫濕度控制 干凈空間的溫濕度主要是依據(jù)工藝請求來肯定，但在滿足工藝請求的條件下，應思索到人的溫馨度感。隨著空氣干凈度請求的進步，呈現(xiàn)了工藝對溫濕度的請求也越來越嚴的趨向。詳細工藝對溫度的請求以后還要羅列，但作為總的準繩看，由于加工精度越來越精密，所以對溫度動搖范圍的請求越來越小。例如在大范圍集成電路消費的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數(shù)的差請求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，假如發(fā)作在精細安裝或電路中，就會惹起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將經(jīng)過空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學吸附在外表難以肅清。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時大量半導體器件容易發(fā)作擊穿。關于硅片消費最佳濕度范圍為35—45%。

這里有必要先闡明一下無窗干凈室的照明方式： (1)普通照明它指不思索特殊的部分需求，為照亮整個被照面積而設置的照明。 (2)部分照明這是指為增加某一指定地點（如工作點）的照度而設置的照明。但在室內(nèi)照明由普通不單獨運用部分照明。 (3)混合照明這是指工作面上的照度由普通照明和部分照明合成的照明，其中普通照明的照度按《干凈廠房設計標準》應占總照度的10%—15%，但不低干150LX。 單位被照面積上承受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。國外干凈室的強度請求極高，例如美國關于干凈室的幾個規(guī)范的請求是． 人工光300lx有較好的效果，當工件精密水平更高時，500x也是允許的。關于要紅燈照明的中央，如電子行業(yè)的光刻車間，其照度普通為(25—501x)，用自然光時可允許更高的照度，因此對工作是有利的，所以今后干凈室的照明既采用人工光也采用自然光可能是有出路的，這也是為了節(jié)能而呈現(xiàn)的一種意向。 4、防靜電干凈室中由于靜電惹起的的事故屢有發(fā)作，因而干凈室的防靜電才能如何已成為評價其質(zhì)量的一個不可無視的方面。

實驗室凈化分類 亂流式 空氣由空調(diào)箱經(jīng)風管與干凈室內(nèi)之空氣過濾器(HEPA) 進入干凈室，并由干凈室兩側(cè)隔間墻板或高架地板回風。氣流非直線型運動而呈不規(guī)則之亂流或渦流狀態(tài)。此型式適用于干凈室等級1,000-100,000級。 優(yōu)點：結(jié)構簡單、系統(tǒng)建形成本低，干凈室的擴大比擬容易，在某些特殊用處場所，可并用無塵工作臺，進步干凈室等級。 缺陷：亂流形成的微塵粒子于室內(nèi)空間飄浮不易排出，易污染制程產(chǎn)品。另外若系統(tǒng)中止運轉(zhuǎn)再激活，欲達需求之干凈度，常常須耗時相當長一段時間