在干凈無塵車間設計的應用中，除了依據清潔度請求控制和凈化不同粒徑的塵粒外，菌落控制也是環境控制點之一，在微電子、光學、機械、儀器、生物醫藥，精密化工、食品飲料，涂布新資料等這些工業應用的干凈無塵車間或實驗室對菌落也有嚴厲的請求和規范。 在我們的日常生活中，菌落特別容易產生，很常見。依據文獻和實證測試研討，干凈無塵車間霉菌的構成，普通需求相應的濕度條件。干凈無塵車間設計能夠控制消費環境，使溫濕度滿足消費請求，防止運轉的時分產生一系統問題。通常，東鑫凈化工程設計裝修的GMP干凈無塵車間，普通較大濕度控制在70％以下，濕度設置的戒備線通常為60％。假如環境里，每天超越3小時的外表濕度到達60％-100％時，就有霉菌的風險。假如干凈無塵車間的外表濕度到達80％，每天超越12小時，持續3天，那么霉菌就可能到來。 目前，一些工程公司采用手動形式，來干凈無塵車間設計控制風量微風壓的調理溫濕度，但由于控制風量微風壓的控制閥在技藝艙內，天花板也是彩鋼的軟屋頂，根本上功用是裝置和調試的。調整好后大局部未調整，實踐操作起來也特別費事無法調整。為了使干凈無塵車間干凈室的正常消費和工作，

干凈室中的溫濕度控制 干凈空間的溫濕度主要是依據工藝請求來肯定，但在滿足工藝請求的條件下，應思索到人的溫馨度感。隨著空氣干凈度請求的進步，呈現了工藝對溫濕度的請求也越來越嚴的趨向。詳細工藝對溫度的請求以后還要羅列，但作為總的準繩看，由于加工精度越來越精密，所以對溫度動搖范圍的請求越來越小。例如在大范圍集成電路消費的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱收縮系數的差請求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，所以必需有±0.1度的恒溫，同時請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高產生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結露，假如發作在精細安裝或電路中，就會惹起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將經過空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學吸附在外表難以肅清。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時大量半導體器件容易發作擊穿。關于硅片消費最佳濕度范圍為35—45%。

實驗室凈化分類 亂流式 空氣由空調箱經風管與干凈室內之空氣過濾器(HEPA) 進入干凈室，并由干凈室兩側隔間墻板或高架地板回風。氣流非直線型運動而呈不規則之亂流或渦流狀態。此型式適用于干凈室等級1,000-100,000級。 優點：結構簡單、系統建形成本低，干凈室的擴大比擬容易，在某些特殊用處場所，可并用無塵工作臺，進步干凈室等級。 缺陷：亂流形成的微塵粒子于室內空間飄浮不易排出，易污染制程產品。另外若系統中止運轉再激活，欲達需求之干凈度，常常須耗時相當長一段時間