跟著半導體工業的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業的超純水與其他職業的用水要求不同。半導體職業對超純水有極其嚴厲的水質要求。現在，我國常用的超純水規范有國家規范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產過程中，硼是一種p型雜質。過量會使n型硅反轉，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　超純水是為了研制超純資料(半導體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當的超臨界精密技能出產出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應該運用超純水設備進行制備。專業的超純水設備由預處理(多介質過濾+超濾設備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質滿足18.2MΩ·cm電子級水產水指標。

　半導體職業是一個高能耗的職業。在半導體產品制作過程中，由于出產設備的精密性和出產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件功能下降、影響產品功能。因而，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技能。