今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產需求經過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　Huncotte體系選用核級樹脂，可經過共同的靶向離子交換樹脂有用控制體系出水的硼離子含量。選用IPC-MS檢測硼離子含量，并對硼離子流出物進行分析≤ 0.005μG/L遠低于美標E1.3中要求的硼離子含量。 　　今天，萊特萊德集裝箱海水淡化設備已出廠檢驗。萊特萊德集裝箱海水淡化設備處理了空間限制，安裝便利、體積小、操作簡略。 　　現在，在水資源緊缺的情況下，加強海水淡化的國產化技能研制，在水資源再利用方面，推行海水淡化設備顯得尤為重要，并且現代海水淡化設備也逐漸步入了現代這個快速開展的時代，其有用性和可靠性也越來越被人們所認可。

　超純水是為了研制超純資料(半導體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當的超臨界精密技能出產出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應該運用超純水設備進行制備。專業的超純水設備由預處理(多介質過濾+超濾設備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質滿足18.2MΩ·cm電子級水產水指標。