污水處理是環(huán)保水務板塊中的重要部分，是指經(jīng)過專業(yè)處理手段去除或下降不同類型污水中的固體污染物及有機污染物，令被凈化的水質(zhì)可以到達再次運用或排放要求的過程。污水按來歷可分為出產(chǎn)污水、日子污水及被污染的雨水。 　　出產(chǎn)污水可分為工業(yè)污水、農(nóng)業(yè)污水及醫(yī)療污水，其中以工業(yè)污水為主。現(xiàn)在出產(chǎn)污水中的工業(yè)污水和日子污水處理為污水處理職業(yè)重點處理目標。 　　雖然近年來工業(yè)廢水排放量有所下降，但總量依舊很高，廢水排放量坐落前4位的職業(yè)依次為造紙和紙制品業(yè)、化學原料及化學制品制作業(yè)、紡織業(yè)、煤炭挖掘和洗選業(yè)，4個職業(yè)的廢水排放量為88億噸，占工業(yè)企業(yè)廢水排放總量的47.1%。

今后，廢水處理技能水平將不斷進步，在出水水質(zhì)、出資成本、運轉辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

　半導體業(yè)由于技能發(fā)展迅速、市場變化大，其出產(chǎn)能力具有波動性。所以，要求與之配套的半導體純水體系要有一定的可調(diào)節(jié)性、留有合理的余量，對超純水設備供水的靈活性，安全性，及時性,提出了更高的要求。萊特萊德半導體純水體系投入運轉后，可以出產(chǎn)出合格的電阻率為18MQ *CM的超純水，為半導體用水供給用水保障。