同時利用透射電鏡、掃描電鏡以及偏光顯微鏡輔以溶脹平衡實驗對MMT在CIIR基體材料內的分散以及作用機理進行觀察和分析，探討了OMMT作為阻尼劑的阻尼機理，研究了不同的分散情況對CIIR/OMMT復合材料力學性能、阻尼性能的影響，在進行預清洗過程時，蝕刻速率變化不大，說明表面沒有氧化硅掩蔽層或有機殘留物層，透射電鏡調查也證實了這一發現，通過透射電鏡高分辨元素成像，可以看出納米顆粒的元素組成確實包括Cd元素和S元素。

在透射電鏡中，用電子束代替平行入射光束，用薄膜狀的樣品代替周期性結構物體，就可重復以上衍射成像過程，（2）對于透射電鏡，改變中間鏡的電流，使中間鏡的物平面從一次像平面移向物鏡的后焦面，可得到衍射譜，固定的目的主要是終止組織細胞的生化過程，同時把它們的超微結構改變控制在zui小范圍內，并保護這些結構在后續的脫水、包埋等過程中不被破壞；常用雙固定法，用一定濃度的戊二醛對樣品預固定，漂洗后使用鋨酸對樣品進行后固定。

染色方法有單染，包括鉛鹽單染和鈾鹽單染；雙染色，醋酸鈾染色和檸檬酸鉛染色，雙染色呈現結果更全面，我們一般采用的雙染法進行染色，常用染色劑：醋酸鈾，有微弱的放射性，主要染核酸、核蛋白、細胞核、結締組織，檸檬酸鉛，主要染膜結構、脂類、糖原等，易與CO2反應成沉淀，染色中應采取措施避免，電鏡照片主要解析粒徑分布、單晶/多晶、晶面結構、元素和原子分散，其本質是信號的空間分布，基本機理與比例尺地圖是一致的。