功能介紹

X光電子能譜法是一種表面分析方法，提供的是樣品表面的元素含量與形態，一般，其信息深度約為10nm以內。如果輔以離子刻蝕手段，再利用XPS作為分析方法，則可以實現對樣品的深度分析。

一、電子能譜法的特點

1、可以分析除 H 和 He 以外的所有元素；可以直接測定來自樣品單個能級光電發射電子的能量分布，且直接得到電子能級結構的信息。

2、從能量范圍看，如果把紅外光譜提供的信息稱之為“分子指紋”，那么電子能譜提供的信息可稱作“原子指紋”。它提供有關化學鍵方面的信息，即直接測量價層電子及內層電子軌道能級。而相鄰元素的同種能級的譜線相隔較遠，相互干擾少，元素定性的標識性強。

3、是一種無損分析。

4、是一種高靈敏超微量表面分析技術。分析所需試樣極少量即可，樣品分析深度0.5-10nm 。

二、X 射線光電子能譜法的應用:

東莞X射線光電子能譜機構

1、元素定性分析

2、元素定量分折

3、固體表面分析

4、化合物結構簽定

制樣要求

1.預處理尺寸要求：塊狀/片狀/薄膜：長寬厚不超出1 cm × 1 cm × 3 mm（磁性樣品盡量小）（對塊狀樣品或薄膜樣品的測試面做好標記）；粉末樣品大于200目，不少于10mg，量少請用稱量紙包好再裝到管子里寄送。請勿用手觸摸樣品表面，會引入污染。制好樣后請盡快密封，避免其他物質污染；

2.送樣前樣品需充分干燥，否則影響儀器真空度。高分子樣品在送樣前應進行干燥處理。若含有高揮發性分子等請務必烘烤；

3.樣品含有硫或碘等鹵族元素請務必填寫或者提前告知，避免污染高真空系統；

4.樣品在超高真空及在X射線、紫外線、電子束或Ar離子束照射下應穩定，不分解、不釋放氣體。